對于非導(dǎo)電性物質(zhì)，例如氫氧化鎂等，在利用掃描電鏡進(jìn)行直接觀察時(shí)，會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重的荷電現(xiàn)象，影響對樣品的觀察，因此需要在氫氧化鎂表面蒸鍍導(dǎo)電性能好的如金等導(dǎo)電薄膜層。這樣不僅可以防止荷電現(xiàn)象，還可以減輕由電子束引起的氫氧化鎂表面損傷;增加二次電子的產(chǎn)率，提高圖像的清晰度;并可以掩蓋基材信息，只獲得表面信息。一般金屬層的厚度在 10nm 以上不能太厚。鍍層太厚可能會(huì)蓋住氫氧化鎂表面的細(xì)微得不到樣品表面得真實(shí)信息，反之，對于樣品表面粗糙的樣品不容易獲得連續(xù)均勻的鍍層，容易形成島狀結(jié)構(gòu)，從而掩蓋樣品的真實(shí)表面。表面鍍膜最常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。其中真空蒸發(fā)一般是在10^-7—10^-5Pa的真空中蒸發(fā)低熔點(diǎn)的金屬。一般常采用的是蒸鍍金屬金薄膜，當(dāng)要求放大倍數(shù)時(shí)，金屬膜的厚度應(yīng)該在10nm以下。